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1000L制冷加熱控溫系統(tǒng) 反應器控溫一體機

簡要描述：【無錫冠亞】1000L制冷加熱控溫系統(tǒng) 反應器控溫一體機，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

產(chǎn)品型號：SUNDI-235
廠商性質：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-01-16
訪問量：1503

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

詳情介紹

品牌	冠亞制冷	價格區(qū)間	10萬-20萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應用領域	化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制

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型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃～+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

流量壓力 max

L/min bar

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水）cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風）cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

55*120*170

正壓防爆(水）cm

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

50*68*145

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　　加熱冷卻溫控設備在低溫真空精餾提純中，能夠實現(xiàn)高溫和低溫操作，在低溫真空精餾提純中，加熱冷卻溫控設備可以提供準確的溫度控制和穩(wěn)定的操作環(huán)境，從而確保精餾過程的順利進行。

　　一、什么是低溫真空精餾提純？

　　低溫真空精餾提純是一種利用低溫、真空條件下物質沸點降低的原理，通過精餾技術分離和提純物質的方法。該方法廣泛應用于化學、制藥、食品等領域。在低溫真空精餾提純中，溫度控制是因素之一，直接影響著精餾效率和產(chǎn)品質量。

　　二、加熱冷卻溫控設備在低溫真空精餾提純中的應用

　　1、溫度控制：冠亞制冷加熱冷卻溫控設備能夠提供準確的溫度控制，保證精餾過程中溫度的穩(wěn)定。在低溫真空精餾提純中，溫度的波動會影響物質的沸點、蒸氣壓等參數(shù)，進而影響分離效果。加熱冷卻溫控設備可以根據(jù)實際需求設定溫度范圍，并通過自動控制系統(tǒng)實時調整溫度，確保精餾過程的穩(wěn)定性和連續(xù)性。

　　2、操作環(huán)境：加熱冷卻溫控設備可以提供穩(wěn)定的操作環(huán)境，包括溫度和壓力兩個方面。在低溫真空精餾提純中，需要在一定的溫度和壓力條件下進行操作。加熱冷卻溫控設備可以根據(jù)實際需求調整溫度和壓力，并保持其穩(wěn)定，從而為精餾過程提供適合的操作環(huán)境。

1000L制冷加熱控溫系統(tǒng) 反應器控溫一體機