無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、

蒸飽系統(tǒng)控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。

反應釜溫控單元tcu-PID控制回路-制冷加熱機

反應釜溫控單元tcu-PID控制回路-制冷加熱機

　　無錫冠亞反應釜溫控單元tcu采用PID控制回路，在很多領域都有著一定的應用的，PID控制回路的反應釜溫控單元tcu采用全封閉循環(huán)制冷系統(tǒng)，制冷加熱速度快，噪音低。

　　PID控制回路的反應釜溫控單元tcu采用高精度PID程序控溫，可以直接加熱和制冷，也可以輔助加熱和輔助制冷的熱源或冷源，應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用，制冷系統(tǒng)和加熱系統(tǒng)的高壓保護和高溫保護確保儀器長期運行。

　　在PID控制回路的反應釜溫控單元tcu的實際運用中，為了有效保障設備的使用壽命，降低在使用中的故障率，作為操作人員，需要了解一些必要的PID控制回路的反應釜溫控單元tcu故障處理方法，以便于更好更安全的使用PID控制回路的反應釜溫控單元tcu。

　　PID控制回路的反應釜溫控單元tcu可實現(xiàn)-120度~300度的動態(tài)控溫，該系統(tǒng)采用現(xiàn)有的熱能（如蒸汽、冷卻水及超低溫液體——即“初系統(tǒng)”）基礎設施集成到用來控制工藝設備溫度的單流體系統(tǒng)或二回路中。這就完成了只有一種熱傳導液體流入到反應容器的夾套中（而不是直接通入蒸汽、冷卻水或超低溫液體）。

　　高精度PID控制回路的反應釜溫控單元tcu是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，可在配套反應釜進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用。PID控制回路的反應釜溫控單元tcu泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質檢及生產(chǎn)部門。