【無錫冠亞】半導體晶圓快速冷卻系統 芯片散熱水冷機,冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制,40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱,半導體控溫chiller循環系統采用全密閉設計、循環泵采用磁力驅動泵,經過24小時連續運行拷機。
更新時間:2025-01-17
廠商性質:生產廠家
【無錫冠亞】晶圓冷卻腔體測溫裝置 單晶硅冷卻循環裝置,冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制,40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱,半導體控溫chiller循環系統采用全密閉設計、循環泵采用磁力驅動泵,經過24小時連續運行拷機。
更新時間:2025-01-17
廠商性質:生產廠家
【無錫冠亞】半導體晶圓冷卻裝置 硅片循環水冷卻機 ,冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制,40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱,半導體控溫chiller循環系統采用全密閉設計、循環泵采用磁力驅動泵,經過24小時連續運行拷機。
更新時間:2025-01-17
廠商性質:生產廠家
【無錫冠亞】硅片快速冷卻裝置 晶圓快速水冷機 ,冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制,40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱,半導體控溫chiller循環系統采用全密閉設計、循環泵采用磁力驅動泵,經過24小時連續運行拷機。
更新時間:2025-01-17
廠商性質:生產廠家
【無錫冠亞】硅片冷卻裝置 單晶硅冷卻冷凍機 冷水機 ,冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制,40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱,半導體控溫chiller循環系統采用全密閉設計、循環泵采用磁力驅動泵,經過24小時連續運行拷機。
更新時間:2025-01-17
廠商性質:生產廠家
【無錫冠亞】反應裝置低溫循環設備 數據中心chiller ,冠亞制冷設備制冷溫度范圍從-150度到-5度,可滿足不同制冷溫度需求。產品廣泛應用于化工、制藥、生化、新能源、元器件等行業低溫反應領域,制冷速度快,安全可靠。
更新時間:2025-01-16
廠商性質:生產廠家