加熱制冷循環(huán)系統滿足制藥、化工、生物等行業(yè)的溫度要求，為反應釜、反應器等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻的設備。

　　加熱制冷循環(huán)系統具有制冷和制熱兩個功能的制冷加熱控溫系統，適用于控制反應過程中的散熱和散熱過程。反應釜中物料的溫度是線性控制的，可以選擇程序控制模式，您還可以設置傳熱介質和材料之間的溫差。無錫冠亞加熱制冷循環(huán)系統采用*封閉的循環(huán)，在高溫下不會產生油霧，在低溫下不會吸收水分，在冷卻和加熱過程中，傳熱介質膨脹和收縮。

　　加熱制冷循環(huán)系統采用全密閉循環(huán)管路，與之前的開槽反應器加熱制冷循環(huán)系統相比，放的導熱介質和導熱介質有熱脹冷縮的物理特性，槽體相當于膨脹容器。開槽的系統控制外循環(huán)比如夾套反應的時候，實驗室反應釜的時候，實驗室反應釜的體積越大夾套的體積越大，整個系統的導熱介質越多，降溫過程中濃縮變化越大，槽體積要求越大。整個系統的溫度變化過程中的熱量負載為整個系統導熱油總量(主要)+實驗室反應釜體內的反應物，槽的體積越大用于釜體內的有效功率越小，實驗室反應釜內反應物升溫和降溫的速度響應及速率越慢。

　　加熱制冷循環(huán)系統反應釜的控溫，是靠反應釜夾套的導熱油的溫度變化來控制反應釜內的溫度，系統導熱介質越多，有效的功率用于反應釜內的越少，控溫的速度越慢。當低溫反應時，開槽反應器加熱制冷循環(huán)系統的表面溫度很低，很容易吸收空氣中的水汽在壓縮機的蒸發(fā)器表面結冰，冰是很好的絕熱器，壓縮機的蒸發(fā)器被絕熱而無法導熱，或是導熱介質吸收水分，升高熱介質凝點，使達不到需求溫度。無法降低實驗室反應釜內的溫度。

無錫冠亞加熱制冷循環(huán)系統采用磁力驅動泵，沒有軸封泄漏問題。高溫降溫技術，可以從300℃直接制冷降溫，因為只有膨脹腔體內的導熱介質才和空氣中的氧氣接觸可以達到降低導熱介質被氧化和吸收空氣中水份的風險。